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下列关于氢氟酸挥散法测二氧化硅量，说法不正确的是（）。
A:该方法适合于二氧化硅含量大于95%硅质耐火材料分析
B:样品挥硅前需要经过高温灼烧，主要是为了消除样品中水分和有机物的干扰
C:由于样品挥硅后残渣变为盐类物质，引起检测结果偏高，属于系统误差
D:样品中二氧化硅含量越高，杂质越少，检测数据准确度越高

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出自：高校实验室安全

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