患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）
A:取下腭杆
B:腭杆组织面缓冲
C:腭杆组织面加自凝树脂重衬
D:不做任何处理
E:取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
出自：口腔医学技术（士）

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