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一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()。
A:取下腭杆
B:腭杆组织面缓冲
C:腭杆组织面加自凝树脂重衬
D:不做任何处理
E:取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
出自:
口腔医学技术(师)
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