真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作。在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉，上釉有两种方法：自行上釉和分别上釉，其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高于体瓷烧熔温度下保持数分钟，高于体瓷烧熔温度的范围是（）。
A:31～40℃
B:21～30℃
C:10℃以内
D:11～20℃
E:5℃
出自：口腔医学技术（师）
提示：
同一【IP】的非会员用户每天可免费获取10次答案
收藏本站【zk.995w.com】，下次访问不迷路
本站试题总数:【10245629】个 (题库试题定时更新)
