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依据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列表述中不正确的表述是：（）
A:外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权
B:外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
C:外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。
D:中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计，可以依照本条例享有布图设计专有权。

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出自：法学

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