一般来说，溅射镀膜的过程包括（）这几步。
A:产生一个离子并导向靶
B:被轰击的原子向硅晶片运动
C:离子把靶上的原子轰出来
D:经过加速电场加速
E:原子在硅晶片表面凝结
出自：集成电路制造工艺员

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