He，OH，Na等元素在900℃下，在二氧化硅中的扩散率大于10－13cm2/s，这些元素称为（）。
A:活跃杂质
B:快速扩散杂质
C:有害杂质
D:扩散杂质
出自：集成电路制造工艺员

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