解决氧化层中的钠离子沾污的方法有（）。
A:加强工艺操作
B:加强人体和环境卫生
C:使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备
D:采用HCl氧化工艺
E:硅片清洗后，要充分烘干，表面无水迹
出自：集成电路制造工艺员

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