下列物质的等离子体适合用以刻蚀铝合金中硅的有（）。<br>A:CF<sub>4</sub><br>B:BCl<sub>3</sub><br>C:Cl<sub>2</sub><br>D:F<sub>2</sub><br>E:CHF<sub>3</sub> - 自考题库

下列物质的等离子体适合用以刻蚀铝合金中硅的有（）。
A:CF₄
B:BCl₃
C:Cl₂
D:F₂
E:CHF₃

出自：集成电路制造工艺员

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