不可以对SiO<sub>2</sub>进行干法刻蚀所使用的气体是（）。<br>A:CHF<sub>3</sub><br>B:C<sub>2</sub>F<sub>6</sub><br>C:C<sub>3</sub>F<sub>8</sub><br>D:HF - 自考题库

不可以对SiO₂进行干法刻蚀所使用的气体是（）。
A:CHF₃
B:C₂F₆
C:C₃F₈
D:HF

出自：集成电路制造工艺员

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