邻二甲苯装置的原料来源是（）。<br>A:二甲苯塔底的C<sup>+</sup><sub>8</sub>A<br>B:二甲苯塔底的OX＋C<sup>+</sup><sub>9</sub>A<br>C:吸附分离装置贫PX的抽余液<br>D:二甲苯塔顶的C<sub>8</sub>A - 自考题库

邻二甲苯装置的原料来源是（）。
A:二甲苯塔底的C⁺₈A
B:二甲苯塔底的OX＋C⁺₉A
C:吸附分离装置贫PX的抽余液
D:二甲苯塔顶的C₈A

出自：二甲苯装置操作工

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