光刻加工的工艺过程为( )。
A
①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗
B
①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散
C
①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原
D
①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦清洗
出自：河南科技大学现代制造技术(考查课)(专升本)

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完成拼图验证

按住下方滑块，将拼图拖到缺口处后松开。

拼图背景，将小拼图拖到缺口处
向右拖动滑块

松手后自动验证