出自:海洋油气操作工

砂岩地层酸处理最常采用的是（），能够溶解硅酸盐类。
A:盐酸
B:硫酸
C:硝酸
D:土酸
地面安全阀阀门促动器工作压力为3000PSI时，按照规范要求水压试验压力应该是（）。
A:3600PSI
B:3000PSI
C:4500PSI
D:3750PSI
在进行流量仪表的流量标定时，需要通过一套标准试验装置来得到。所谓标准试验装置，就是能够控制流量并使之高度稳定在不同数值上的一套液体或气体（）系统。
A:工作
B:循环
C:控制
D:测量
电动潜油泵装置中，（）可以防止天然气沿电缆内层进入控制屏而引起爆炸。
A:保护
B:接线盒
C:电机
D:分离器
系统试井工作是测定油井在（）下油、气、水、砂的产量。
A:不同工作制度
B:同一工作制度
C:同一个油嘴
D:相同冲程、冲次
生产测井最有吸引力的应用在于掌握储集层的初期衰减情况，通过系统的生产测井，可以掌握储集层的变化情况，采取相应措施，使油井和油田维持在最佳状态下生产，解决油田高产和（）的问题。
A:产量
B:压力
C:提高采收率
D:产水
曲率半径为1～2英尺，造斜为每英尺95～60度这类井称（）。
A:短曲率半径水平井
B:中曲率半径水平井
C:超短半径水平井
D:长曲率半径水平井
温度变送器安装地点的环境温度为（）。
A:-29℃～85℃范围内
B:-40℃～100℃范围内
C:0～150℃范围内
D:40～200℃范围内
计算题：某井月含水上升速度为0.5%，采油速度为1.2%。那么每采出1%的地质储量，求该井的含水上升率是多少？答
测定TFB（腐生菌）含量时，细菌培养的时间是（）。
A:1天
B:5天
C:2周
D:1个月
注水井每日实际注水泵压，通常是由（）录取的。
A:注水干线的压力表上
B:井口油压力表上
C:配水间油压力表上
D:井口套压力表上
DeltaV系统目前的升级已经顺利完成，升级的内容不包括下列哪一项：（）。
A:工程师站硬件由WS220工作站升级到2300服务器
B:控制网络传输速率由以前的10M升级到100M
C:所有控制器升级到最新的MD控制器
D:所有软件并没有升级
（）铰刀用以加工圆锥形定位销孔。
A:米制1：10锥度
B:莫氏锥度
C:米制1：30锥度
D:米制1：50锥度
来自各井口平台的生产流体通过（）装置流至浮式生产储油装置。
A:海底管道
B:采油树
C:单点系泊
D:混输泵
美国根据不同的油井条件，选取不同的抽油方法，如对强水淹井，采用（）采油。
A:电泵
B:水力活塞泵
C:抽油机深井泵
D:气举法
关于采油树上小四通的叙述，（）的说法是错误的。
A:油井出油必经通道
B:油井洗井必经通道
C:油井放气必经通道
D:水井测试必经通道
分子筛在使用前应（）。
A:通风
B:水洗
C:再生
D:试压
铰削尺寸较小的圆锥孔，可先按小端直径名义尺寸留铰削余量钻出圆柱孔，并在孔口按大端直径尺寸锪（）°的倒角，然后用相应的锥铰刀铰削。
A:30
B:45
C:60
D:90
沉降法除去浮油，油珠上浮速度与油珠直径（）。
A:的平方成正比
B:成正比
C:无关
在20世纪后半叶自动控制系统得到了快速发展，（）的广泛应用，使得自动控制的应用更为普遍。
A:信息技术
B:计算机技术
C:生物技术
D:通信技术
作为民用燃料的二类商品天然气，总硫（以硫计）含量只要（）即可。
A:≤270mg/m3
B:等于300mg/m3
C:＜290mg/m3
D:＜300mg/m3
关于原油缓冲罐低液位的原因，以下说法不正确的是（）。
A:罐体底部排放阀打开
B:外输海管压力突然增大
C:上游处理量减小
D:控制系统失灵
下面不是电气元件防爆类别的是（）。
A:一般保护
B:充压保护设施
C:阻燃壳体
D:物料保护
经处理合格的合格原油储存在浮式生产储油轮上的货油舱内，并定期地通过（）外输。
A:海底管道
B:单点系泊
C:穿梭油轮
D:混输泵
露空地面管线的设备一般采用（）防腐方法。
A:油漆
B:沥青绝缘
C:阴极
D:任意
海上油田中影响结垢的主要因素是（）。
A:水的温度
B:水产量
C:防垢剂的用量
D:水的成分和类型
泡沫是（）以气泡的形式分散在液体中所形成的分散体系。泡沫是一种胶体。
A:液体
B:气体
C:流体
D:固体
井口控制盘无法控制井口采油树的（）。
A:油嘴
B:地面安全阀
C:井下安全阀
D:电潜泵
对于K、E、T、R型热电偶，在相同的I类允差等级里，如果允差值的百分数相同，哪种类型的热电偶的绝对温度最小，请选择（）。
A:K
B:E
C:T
D:R
现行流行EMERSONDeltaV系统一般采用三级网络格式，信息层采用（）实现系统数据交换；中间层为（）负责系统通讯；底层是设备（），网络连接就地设备（）。
A:以太网（EntherNet）、控制层（ControlNet）、设备层（DeviceNet）
B:控制层（ControlNet）、设备层（DeviceNet）、以太网（EntherNet）
C:设备层（DeviceNet）、以太网（EntherNet）、控制层（ControlNet）
D:以太网（EntherNet）、设备层（DeviceNet）、控制层（ControlNet）
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